中国首台3纳米光刻机是什么？

一、中国首台3纳米光刻机是什么？

根据我所了解的信息，目前中国尚未公开宣布研发或拥有首台3纳米光刻机。光刻技术一直在不断发展，目前全球最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV（极紫外）光刻机。然而，中国在芯片制造领域取得了重要进展，并且正在积极推动自主研发和生产先进的光刻机技术

二、中国首台国产28纳米光刻机投产了吗？

中国首台国产28nm光刻机有望年底投入使用

上海微电子的28纳米光刻机已经正式通过了技术认证和检测，有望在年底投入使用，这预示着我们在摆脱外国技术依赖上又前进了一大步。这个消息让无数国人感到沸腾。

相信在不久的未来，中芯国际等半导体行业，飞速发展的背后预示的是中国智造的崛起，这一点体现在各行各业，尤其是手机领域今年的表现就十分亮眼。

三、中国首台光刻机成功了吗？

成功了。2022年2月7日，上海微电子举行首台2.5D/3D先进封装光刻机发运仪式，这标志着中国首台2.5D/3D先进封装光刻机正式交付客户。

先进封装光刻机是上海微电子目前的主打产品，全球市场占有率连续多年排名第一。此次发运的产品是新一代的先进封装光刻机，主要应用于高端数据中心高性能计算（HPC）和高端AI芯片等高密度异构集成领域，可满足2.5D/3D超大芯片尺寸的先封装应用需求，代表了行业同类产品的最高水平。

四、中国首台光刻机正式投产？

2月7日，由上海微电子研发制造的中国首台2.5D与3D先进封装光刻机，在上海正式交付。这一具有高分辨率、高套刻精度、超大曝光面积等特点的高端设备，将推动我国集成电路封装/测试环节提升工艺水平、开拓新工艺。

在这台2.5D/3D封装光刻机上，一大技术亮点是能通过系统级封装，把内存、中央处理器、射频和接口等独立的小芯片，集成在一起，提升芯片的集成度，增强系统功能的多样性和复杂性，同时，对产品良率和成本做到有效控制。

目前，这一封装光刻机制造技术，国际上仅少数几个国家掌握。上海微电子装备（集团）股份有限公司副总经理黄栋梁表示，“它现在单次静态的曝光视场 可以做到60毫米乘60毫米，我们可以一次将很多个不同种类的芯片摆在一起，通过一次曝光的方式 实现它们相互之间的连通。”

2009年至今，上海微电子通过自主攻关，已先后研发、制造出三代光刻机产品。其中，封装光刻机在全球市场占有40%以上的份额；国内市场占有率超90%，技术水平已迈入国际第一梯队。

"十四五"期间，上海电气还将聚焦关键领域的技术和装备突破，进一步提升自主创新能力。 上海电气集团党委书记、董事长冷伟青说道：“比如漂浮式海上风机，比如海上直流输电，也包括工业汽机、工业燃机、四代核电 1、5兆瓦的风机等等。科技创新是我们企业的根和魂。”

五、中国首台光刻机是哪个公司创造的？

中国首台光刻机是中科院设计制造的。

我国最早在1977年就开始研究国产光刻机设备，并且当时还制造出了我国最早的光刻机-GK-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。1978年再次改进研发了GK-4型号的光刻机设备，直接将加工圆片直径从50毫米提高到75毫米，在1981年，中国科学院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机，并在1981年研制成功两台样机，但由于我国没有顶层的芯片能产业链设计，即便当时中国的集成电路在科研上可以达到世界顶尖水准，但最终这些世界顶尖水准的光刻机设备，因为限制而成为了废铁，后续也没有传来关于国产光刻机更多的消息。

六、中国首台光刻机造出来是真的吗？

是真的。

光刻机，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

我国很早就在研发光刻机，之前生产出来的只不过是低端的光刻机。2016年，上海光电就生产制造出了90纳米的光刻机，占据着我国市场80%的份额，虽说低端，但满足大多数需求是够的。象尖端手机需要的芯片我们目前还被西方国家卡脖子。但在国家的大力支持下，在国人日夜的攻坚下，上海光电28纳米光刻机已研发成功，今年明年将量产。后续我们还将继续突破。

2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

七、中国光刻机能产几纳米？

能量产14纳米芯片。2022年中国光刻机能生产14纳米芯片。目前我国芯片制造工厂最高可以批量生产14纳米芯片，而技术上可以生产7纳米芯片，不过目前良品率不高无法量产。

八、七纳米光刻机中国有几台？

中国大陆仅有一台七纳米光刻机，在武汉弘芯

九、3纳米光刻机研究了多久？

已经研究了四十多年！但距世界先进水平还有很大差距，之所以存在这个问题，是综合国力问题，1977年我国正处于改革开放前夕，虽然在科研方面我国成功研发出了第一台接触式光刻机，但是综合国力尚且还很薄弱，国家处于转弯阶段，从政策到力量到支持都不足以支撑光刻机技术继续研发下去。

十、光刻机3纳米有什么意义？

         3纳米，是指节点技术的关键尺寸，而这个尺寸不是芯片能用肉眼看到的几何尺寸(一般是毫米到厘米级别），而一般是指栅极长度（gate length）。

        在我国自主造芯的过程中，半导体设备的重要性被无限放大，尤其是被誉为工业皇冠明珠的光刻机，是我们实现“中国芯”这一目标必须要跨越的“藩篱”。