国内唯一7nm光刻机去向？

一、国内唯一7nm光刻机去向？

抵押给了武汉农商银行。

目前，中国大陆唯一一台7nm光刻机是在武汉弘芯，其价值高达5.8亿元。但是，最近武汉弘芯因为资金链缺口太大，面临着项目随时有可能喊停的情况下，竟然将这大陆唯一一台的7nm光刻机拉出去抵押了。

其被以58180万元的价格抵押给了武汉农商银行。

二、国内唯一7nm光刻机哪里来的？

中国唯一一台7nm光刻机是由中国科学院微电子研究所自主研发的，其研发工作始于2014年，目前该机已经达到了工程样机阶段。

该光刻机的研发是中国在芯片制造领域的重要突破，也是在半导体制造领域最为核心、最具关键性的设备之一。

据官方消息，目前该光刻机已经完成了1万亿分之一级别的曝光，并且可以在300mm硅片上生产7nm级别的芯片。但是，该光刻机的性能仍有待进一步提高，目前与市场上的高端光刻机仍有一定差距。

从整个行业的角度来看，芯片制造过程中的光刻技术是一个重要而复杂的环节。目前，全球高端光刻机市场仍然被国外公司垄断。尽管中国研发出了7nm级别的光刻机，但在取得国际市场影响力和竞争力上还需要付出更多努力。

三、7nm光刻机到中国了吗？

由于美国对中国科技制裁，荷兰国家生产的7nm光刻机不能卖给中国，因此，7nm光刻机还未进入中国。

四、中国7nm光刻机自主了吗？

没有自主。

国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来。

五、7nm光刻机成功了吗？

没有成功。不论国内还是国外目前都没有7nm的光刻机，以最先进的荷兰阿斯麦尔euv光刻机为例，其光源采用的是13.5nm波长的极紫外光，然后利用多重曝光等技术实现7nm及以下工艺制程芯片的制作，所以7nm指的是工艺制程并不是光刻机。

国产目前最高有望实现28nm光刻精度的duv光刻机，离euv还差一代。

六、7nm光刻机是什么？

7nm只是一种工艺的代号，它和光刻机本身是不挂钩的。按照一般人的理解7nm光刻机就是指能制作7nm工艺的光刻机，这个命名方式乍看起来很合理，实际上漏洞百出。

业界对于光刻机主要是根据其使用光源进行命名和分类。比如现在处于尖端地位的EUV（extreme ultra violet）光刻机，这类光刻机使用了极紫外光作为光源。目前业界的EUV光刻机大多使用的是波长为13.5nm左右的极紫外光。

另一种业界比较主流的光刻机就是DUV（deep ultra violet）光刻机了，这类光刻机使用的是深紫外光作为光源。目前业界的DUV光刻机大多使用的是波长为193nm的氟化氩准分子激光（ArF excimer laser）或者波长为248nm的氟化氪准分子激光（KrF excimer laser）作为光源。

七、7nm光刻机是啥？

是用来生产芯片用的，使芯片电路曝光刻画的比较先进的制程。现在最先进的三纳米制程也开始出现了。

八、中国第一台光刻机？

1974年9月、1975年12月、1977年1月先后召开关于全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议。在这三年期间中国成功研制出了分布重复式光刻机、电子束曝光机，超纯水处理系统等一流水平的半导体设备。中科院半导体研究所1978年开始研制半自动接近式光刻机，1981年研制成功。中科院45所1985年研制出了分布式光刻机。这台分布式光刻机是中国光刻机的标杆也是中国光刻机的绝唱。

八十。

九、7nm光刻机谁造的？

目前7nm光刻机只能是由荷兰的阿斯麦尔公司制造的，因为荷兰的阿斯麦尔公司的整合能力是最强的，他能把全球各个顶尖的零部件整合在一起，从而制造出世界最强的光刻机，比如美国的光源，德国的镜头，英国的马达等，这些都是最先进的设备，当然阿斯麦尔公司的光刻机也不便宜，一台大概要一亿美元，现在高端光刻机基本被阿斯麦尔公司所以垄断

十、比亚迪光刻机能造7nm吗？

不行，自主国产光刻机现阶段只能造90nm芯片，目标是先追求18nm，这个量最大，最有希望突破。