从事新能源行业学什么专业？

一、从事新能源行业学什么专业？

1、汽车减排—电子系；

2、低碳—化学、化工系；

3、太阳能，风能等新能源—电子系、材料系、物理系；

4、燃料电池—化学系、化工系、材料系、环境系；

5、智能电网—电子系、计算机系；

6、微生物燃料电池—生物系。

新能源专业就业前景很好，新能源科学与工程专业毕业生可在现代电力企业及研发设计单位、新能源装备制造、变频器制造、电气设备制造等相关单位从事产品研发、系统设计、规划、运维、技术管理等工作。

二、游戏行业需要什么专业？

游戏行业的主要任务是进行游戏的设计、开发和维护，因此，游戏行业要求拥有相关的专业背景，如软件工程、图形设计、计算机科学、艺术设计等。

三、电池行业需要什么专业？

电池行业需要：化学工艺，物理化学，材料化学，电化学，粉体制备等。

电池指盛有电解质溶液和金属电极以产生电流的杯、槽或其他容器或复合容器的部分空间，能将化学能转化成电能的装置。具有正极、负极之分。随着科技的进步，电池泛指能产生电能的小型装置。如太阳能电池。电池的性能参数主要有电动势、容量、比能量和电阻。利用电池作为能量来源，可以得到具有稳定电压，稳定电流，长时间稳定供电，受外界影响很小的电流，并且电池结构简单，携带方便，充放电操作简便易行，不受外界气候和温度的影响，性能稳定可靠，在现代社会生活中的各个方面发挥有很大作用。

四、ict行业需要学什么专业？

ICT行业需要的人才涉及不同的学科，主要包括计算机科学与技术、信息与通信工程、电子科学与技术、软件工程、控制科学与工程等，其他学科或多或少跟iIC行业相关，但是比起以上几个学科相关性要低一些。

五、普通人进入新能源行业能做什么？

什么都做不了。新能源都是行业寡头，你一没资金，二没技术，只能是帮别人打工。普通人就做自己的普通事，不要好高骛远，进入自己不熟悉的行业，难免会上当受骗。别到时候钱没赚到，还给自己欠一屁股债。人，只做自己熟悉的行业，不赚自己看不懂的钱。

六、新能源专业毕业后能从事什么行业？

可在国家新能源科学与工程相关各类大、中型企业，从事与风能、太阳能、生物质能、新能源开发、环境保护等领域的设备制造、检修与维护、集控运行、生产管理等方面的工作，也可在学校、科研院所等单位进行相关方面的教学、工程设计等工作。

七、新能源电池需要什么专业？

新能源专业相关学生的毕业方向大致有以下三方面：

第一，工程学（engineering），比如开发新能源技术，这就要选择工程类院校，并且对新能源有一定侧重的；

第二，能源经济学（energy economics），从经济的角度分析各种新能源的可行性，经济类别的学校都可以选择，有没有能源侧重都无所谓，经济原理到哪都适用；

第三，能源政策（energy policy），主要从国家政策的角度研究环境保护政策，以及促进新能源开发政策等，这就要选择国家政策比较好的学校，并且有能源政策或环境政策侧重。

八、新能源汽车需要学什么专业？

自2009年以来，我国在传统燃油汽车产销方面一直处于全球领先地位。在政策支持下新能源汽车的生产和销售也呈现快速增长。

随着环保意识的提升，人们更加愿意接受新能源汽车。新能源汽车的代表——特斯拉即将在我国建厂就说明了我国新能源汽车产业发展的是多么喜人。我国新能源汽车的发展取得了本质性突破，销量成为全球第一。

目前新能源汽车专业人才十分紧缺，人才缺口大，行业前景好，因此新能源汽车技术就业前景十分广阔。

新能源认知与了解,底盘技术,发动机技术，新能源汽车电学基础及高压安全，汽车底盘电控技术，汽车电子控制检测诊断，新能源汽车技术检测，汽车电工电子技术，新能源汽车电池及电源管理系统等，学习内容主要就是围绕新能源汽车的相关技术为主，同时也学习一些传统汽车知识

九、保险行业需要什么专业？

保险行业主要需要保险专业，金融、管理等专业也有需要。

十、半导体行业需要什么专业？

【扩散工艺Diffusion Process】半导体扩散工艺，生产中的扩散指工艺所需要的杂质在一定条件下对硅（或其他衬底）的掺杂。如在硅中掺磷、硼等。广义上讲，氧化与退火也是一种扩散；前者指氧气在SiO2中的扩散，后者指杂质在硅（或其他衬底）中的扩散。其目的是为了改变原材料的电学特性或化学特性。

【薄膜工艺Film Process】半导体薄膜工艺，生产中的薄膜指通过蒸镀、溅射、沉积等工艺将所需物质铺盖在基片的表层，根据其过程的气相变化特性，可分为PVD与CVD两大类。

【光刻工艺 Litho Process】半导体光刻工艺，通过一系列生产步骤（主要包含涂胶，曝光，显影），将晶圆表面的薄膜与光刻板中的图形做相同动作的选择性的显开或遮蔽。而光刻机的图形转移能力（最小线宽）是整条工艺线的重要指标，这与设计时可做的集成度大小有直接关联。

【刻蚀工艺Etch Process】半导体刻蚀工艺，实际上就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。在半导体制程中，刻蚀就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法，在光刻的基础上有选择地进行图形的转移。 刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。干法刻蚀主要利用反应气体与等离子体进行刻蚀；湿法刻蚀主要利用化学试剂与被刻蚀材料发生化学反应进行刻蚀。