euv光刻机能做多少nm？ 最先进光刻机几nm？

一、euv光刻机能做多少nm？

可以做到4nm。

euv光刻机商业量产芯片目前可以做到4nm工艺制程。euv光刻机是目前最高端光刻机，其最高加工制程目前是3nm工艺待产，4nm工艺量产。其中包括苹果a16芯片、高通骁龙8gen1、高通骁龙8+gen1、天玑9000、天玑9000+等多款芯片。而可以代工4nm芯片的有台积电和三星两家公司。

二、最先进光刻机几nm？

目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。

　　中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。

三、中国现在能造几nm的芯片？

14纳米

中国现在能做14nm芯片。14nm并不是停在实验室里面的研发，也不是投产，而是规模量产。此外90nm光刻机、5nm刻蚀机、12英寸大硅片、国度产CPU、5G芯片等也实现突破。

四、28nm光刻机能造出几nm的芯片？

5纳米。

28纳米光刻机作为先进半导体芯片制造中的重要设备之一，其本身的生产工艺无法支持5纳米的芯片生产。但是，通过使用一系列先进的制造技术和调整设备参数等手段，可以将28纳米光刻机用于5纳米芯片生产。

五、国产28nm光刻机能生产几nm芯片？

理论上可以生产7nm芯片。

国产28nm光刻机可以生产7nm芯片。28nm光刻机也就是duv深紫外光光源波长的光刻机，目前该类型光刻机最高制程就是7nm。能够达到duv光刻机7nm芯片量产的有台积电和三星两家，而中芯国际也能制造7nm芯片，只不过良品率没到量产阶段，其7nm芯片晶体管密度能达到台积电10nm水平。

六、张江高科生产几nm光刻机？

1. 张江高科生产的光刻机一般是几nm级别的。2. 这是因为几nm级别的光刻机具有更高的分辨率和精度，能够满足当前微电子行业对于芯片制造的要求。3. 此外，随着科技的不断进步，未来可能会有更小尺寸的光刻机问世，以满足更高级别的芯片制造需求。

七、湖南首条光刻机是几nm？

湖南首条光刻机是2019年投入使用的一台EUV光刻机，其最小曝光尺寸为7纳米。光刻机是半导体制造中关键的设备，用于将芯片上的电路图案投射到硅片上。EUV光刻技术是目前最先进的光刻技术，能够实现更小的曝光尺寸，提高芯片的集成度和性能。湖南首条光刻机的投入使用标志着中国在半导体制造领域取得了重要突破，对于推动中国半导体产业的发展具有重要意义。

八、中国有4nm光刻机吗？

目前，中国暂时没有4nm光刻机。但5nm的光刻机生产研发已取得突破性的进展。不久的将来，我国的光刻机技术会得到更好的发展，不仅能生产出4nm芯片，还能生产出更高精度的芯片。科技造就未来，我国用科技提高自身综合实力，打破外国垄断指日可待。芯片和光刻机的共同发展，才能造就更加精彩的科技生活，智能化时代就在不远的未来。

九、中国2nm光刻机何时问世？

中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！

十、世界光刻机最高端的是几nm？

目前ASML主要对外销售的光刻机设备为NXE:3400C，全新的模块化设计，也是让光刻机设备更加便于维护和维修，同时也支持7nm、5nm芯片工艺制程，而根据ASML此前所披露信息来看，目前也正在研发全新一代EUV光刻机设备EXE:5000系列，全新一代EUV光刻机设备的主要合作伙伴依旧还是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心，而这次全新研发的EXE:5000系列EUV光刻机，分辨率更是直接提升了70%，意味着ASML这次所研发的EUV光刻机设备将会直接瞄准2nm，甚至是极限1nm芯片制程工艺。